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PRODUCT CLASSIFICATION
更新時間：2020-01-03 
瀏覽次數：1958箱式真空爐適用于工礦企業、大專院校，科研院所及實驗室作真空或氣氛狀態下燒結各種新材料樣品用。箱式真空爐可供化學分析、物理測定，以及金屬、陶瓷的燒結和熔解、小型鋼件等加熱、焙燒、烘干、熱處理用。
箱式真空爐是一種先進實驗設備，適用于金屬，納米，單晶硅，多晶硅，電池等的擴散焊接以及真空氣體保護下，箱式真空爐熱處理的加熱設備。主要用于材料試驗、合成、燒結等。爐體保溫性能良好，節能*。
箱式真空爐還可用于、復合材料、粉體材料、結構陶瓷、合金的真空熱壓燒結。
箱式真空爐工分為以下幾個部分，
1.爐膛
箱式真空爐爐膛采用莫來石聚輕磚砌筑，爐膛內上下用碳化硅棚板，爐內溫度是加熱元件在加熱過程中經過碳化硅棚板傳導（暗火加熱），溫度更均勻。箱式真空爐爐殼密封。為提高密封墊的使用壽命在爐門口設有循環水冷套以降低密封處的溫度。進氣設爐膛底部，經加熱腔預熱后分多處進入爐內，排氣經爐頂后部排出。保證爐內氣氛均勻，減小爐內溫差。氣路上裝有氣體流量計，用于正常使用控制氣氛流量。
2.箱式真空爐冷卻 爐門采用循環式水冷。設有進出水接頭。
3.電氣箱式真空爐電氣部分采用與爐體一體化結構，整個電氣元件安裝在爐體底部的一側，結構緊湊、占用空間小。箱式真空爐溫控安裝在爐體側面板上，觀察直觀，調節方便，溫控儀具有PID調節功能，可自動跟蹤設定PID值，可任意設定測量分度密碼，同時具備補償功能，可使爐膛溫度與顯示值一致，箱式真空爐控溫方式：采用德國西門子技術，具有軟啟動、軟關斷、可控硅移相調壓控制，0~98%輸出可調節，面板上各種儀表開關等有相應的中文標牌。
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